解決這種問題大方向應是從精選原材料、科學調(diào)整配方及原料加工工序入手。對于釉面磚，可以排除配方始熔點過低造成的組分氧化受阻的可能性。但是由于釉面磚生產(chǎn)速度普遍較快(微粉拋光磚窯內(nèi)線速度為2.0m/s，瓷片生產(chǎn)甚至達到了8.2~8.5m/s），導致組分中的有機物分解不完全而形成積炭，鐵質物（強酸弱堿鹽）在高溫還原氣氛下出現(xiàn)還原現(xiàn)象。所以在一定程度上可以采取以下措施來調(diào)整窯爐燒成工序來控制燒成雜質的生成：
（1）排煙風機、開槍數(shù)量、助燃風壓、霧化風壓甚至擋火墻、擋火板的調(diào)節(jié)對窯爐內(nèi)的壓力、氣氛調(diào)整都有著明顯作用。但是以上的任何一方面調(diào)試都可能產(chǎn)生其它問題，所以調(diào)試時必須對窯爐燒成的狀態(tài)進行整體的綜合分析，這樣才能避免所說的雜質缺陷生成。
（2）窯爐的溫度曲線、各個溫度階段的窯內(nèi)熱平衡調(diào)節(jié)(這往往需要借助窯爐壓力來進行分析)對燒成雜質的生成也起到至關重要的作用。
（3)除了以上方面之外，由于窯爐的燒成特性通常各有不同，主要體現(xiàn)在產(chǎn)量定位、燃料選擇、燒嘴選型甚至對坯體配方的適應性能(即配方的敏感性)等方面，所以反復調(diào)試后如果收效不大就應該轉變窯爐的控制思路。
